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台積電資本預算 逾94億美元
Aug 13th 2013, 18:01

     晶圓代工龍頭台積電(2330)昨(13)日召開例行季度董事會,會中核准資本預算新台幣573.65億元,用來建置、擴充、升等先進製程產能。同時,董事會亦核准研發資本預算新台幣11.2644億元。

     台積電今年已召開3次例行季度董事會,合計通過資本預算達新台幣2,821.6968億元,以及合計通過研發資本預算41.3084億元。其中資本預算折算為美元,已超過94億美元,所以台積電今年雖然額定資本支出預算介於95~100億美元間,但的確很有機會調升至100億美元以上。

     台積電近幾年來擴大資本支出建立新晶圓廠,今年下半年開始,先進製程產能將逐季開出,包括中科12吋廠Fab15第3期將在第3季開出每月約3萬片的28奈米產能,Fab15第4期每月約3萬片的28奈米產能預期會在第4期開出。

     另外,台積電竹科Fab12第6期工程已經開始進行20奈米系統單晶片(20SoC)製程批量投片,南科12吋廠Fab14第5期工程預計明年2月開始進入20奈米製程的量產,隨後Fab14第6期工程預期會在明年第2季下旬開始進入量產,屆時台積電將成為全球最大的20奈米產能提供者。

     台積電同樣已著手進行16奈米鰭式場效電晶體(FinFET)製程的研發,台積電因為將16奈米量產時間提前到2015年開始,所以,針對16奈米產能興建的南科12吋廠Fab14第7期已經在上半年動土,下半年開始建廠,希望2015年第1季投入量產,Fab14第8期工程也進入建地整地階段。

     台積電現在已開始進行10奈米製程先前研發階段,今年及明年將投入龐大的研發預算,預計2017年時10奈米可進入量產。而值得注意之處,在於台積電很有可能在10奈米製程開始採用新一代的極紫外光(EUV)微影技術。

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